詳細(xì)摘要： TAM系列空氣中氚監(jiān)測儀
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詳細(xì)摘要： RSM1000放射源監(jiān)測系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： FJ1100門框式人員放射性監(jiān)測系統(tǒng)
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詳細(xì)摘要： TEM斷層掃描系統(tǒng)采用算法的軟件，實(shí)現(xiàn)了從獲取連續(xù)傾斜圖像到三維重構(gòu)整個過程的自動化。
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詳細(xì)摘要： JED-2300T AnalysisStation是以“圖像觀察和分析"為基本理念的TEM/EDS集成系統(tǒng)。在分析數(shù)據(jù)過程中，自動采集電鏡主機(jī)的倍率、加速電壓等...
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詳細(xì)摘要： Chip DSC-10 集成加熱設(shè)計(jì)
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詳細(xì)摘要： JBX-9500FS是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼具高水平的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mmφ的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納米壓印、光子器件、通信...
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詳細(xì)摘要： 高精密JBX-8100FS圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過的設(shè)計(jì)優(yōu)化，實(shí)現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
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詳細(xì)摘要： JBX-6300FS的電子光學(xué)系統(tǒng)在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為（計(jì)算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實(shí)際可達(dá)5nm）的圖形。 ...
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詳細(xì)摘要： JBX-3200MV是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精度和...
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詳細(xì)摘要： JBX-3050MV 是用于制作45nm～32nm 節(jié)點(diǎn)的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 zei的技術(shù)實(shí)現(xiàn)了高速、高精...
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詳細(xì)摘要： 是濺射、刻蝕、CVD、離子鍍等薄膜制備/加工使用的、用于生成等離子體的13.56MHz高頻電源（RF電源）
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詳細(xì)摘要： JEBG系列大功率電子槍是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在不斷輸送中的寬幅塑料和大面積玻璃基板上高速率地連續(xù)鍍膜，此外在電子束熔煉時，可...
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詳細(xì)摘要： 和偏轉(zhuǎn)型電子槍結(jié)合使用，用作電子束蒸鍍的高壓電源
產(chǎn)品型號：所在地：廣州市更新時間：2024-12-16 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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