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彤程新材光刻膠新品研發(fā)實現(xiàn)突破，項目已具備量產(chǎn)能力
【塑料機械網(wǎng) 明星企業(yè)】11月5日晚間，彤程新材料集團股份有限公司(股票代碼：603650)發(fā)布關于光刻膠項目進展情況的公告。
公告稱，公司全資子公司上海彤程電子材料有限公司(簡稱“彤程電子”)在上?；瘜W工業(yè)區(qū)投資建設年產(chǎn)1.1萬噸半導體、平板顯示用光刻膠及2萬噸相關配套試劑項目的工程階段已竣工，目前已逐步進入試生產(chǎn)階段。
《彤程新材料集團股份有限公司
關于光刻膠項目進展情況的公告》部分內(nèi)容
年產(chǎn)300/400噸ArF及KrF
光刻膠產(chǎn)線進入試生產(chǎn)
根據(jù)公告，公司上?；瘜W工業(yè)區(qū)工廠占地36200平方米，設計能力年產(chǎn)1千噸半導體光刻膠、1萬噸顯示用光刻膠和2萬噸高純EBR試劑(光刻膠去邊劑)。同時在國際國內(nèi)半導體廠商及光刻膠廠商戰(zhàn)略合作推動下，完成了產(chǎn)線優(yōu)化及品控升級。
《彤程新材料集團股份有限公司關于光刻膠項目進展情況的公告》部分內(nèi)容
在光刻膠產(chǎn)能建設情況方面，公司上海化學工業(yè)區(qū)工廠年產(chǎn)1千噸半導體光刻膠量產(chǎn)產(chǎn)線，主要包括年產(chǎn)300/400噸ArF及KrF光刻膠量產(chǎn)產(chǎn)線，通過采用超高純PFA(涂層)設備、引入高精度物料流量控制系統(tǒng)、配以自研的高精度高效率光刻過濾系統(tǒng)，可以實現(xiàn)ppt級金屬雜質(zhì)及0.1um級別的顆粒管控，具備不同配方先進制程光刻膠的生產(chǎn)能力。
年產(chǎn)300/400噸ArF及KrF
光刻膠產(chǎn)線進入試生產(chǎn)
穩(wěn)定供應國內(nèi)頭部芯片制造商
在ArF光刻膠產(chǎn)品方面，公司已經(jīng)完成ArF光刻膠部分型號的開發(fā)，首批ArF光刻膠的各項出貨指標能對標國際光刻膠大廠產(chǎn)品，已具備量產(chǎn)能力，目前處于量產(chǎn)前的光刻工藝測試及產(chǎn)品驗證階段。產(chǎn)能可同時供應國內(nèi)大部分芯片制造商，能較好地滿足國內(nèi)先進制程光刻膠的部分需求。
在G線、I線及KrF光刻膠產(chǎn)品方面，目前，公司G線光刻膠已經(jīng)占據(jù)國內(nèi)較大的市場份額，I線光刻膠已廣泛應用于國內(nèi)6"、8"、12"集成電路產(chǎn)線，支持的工藝制程涵蓋14nm及以上工藝。KrF光刻膠量產(chǎn)品種達20種以上，穩(wěn)定供應國內(nèi)頭部芯片制造商。
在其他電子化學品項目建設及開發(fā)情況方面，為了解決ArF光刻膠所需的高純?nèi)軇┘皣鴥?nèi)先進工藝制程的需求，公司已經(jīng)搭建完成高純EBR裝置，成為國內(nèi)首家建有高純EBR精餾塔設備及掌握高純精餾技術的本土溶劑供應商。
公司生產(chǎn)的EBR溶劑已達到G4等級規(guī)格，可滿足國內(nèi)40納米以下工藝制程的芯片制造技術需求，年產(chǎn)2萬噸的規(guī)模量產(chǎn)能力可有效滿足國內(nèi)先進制程需求。預計第四季度將完成高純度G5等級EBR的驗證，已在國內(nèi)幾家先進芯片制造商中逐步推動產(chǎn)品驗證。
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